タイトル

ナンバリングコード M3MTR-ABXT-2O-Lx2   科目ナンバリングについて
授業科目名 科目区分 時間割 対象年次及び学科
光・電子材料プロセス工学    
Process Engineering of Optical and Electronic Materials
  後期 木4 1~2 工学研究科博士前期課程材料創造工学専攻
講義題目 水準・分野 DP・提供部局
対象学生・
特定プログラムとの対応
 
 
M3MTR ABXT 2O
担当教員 授業形態 単位数 時間割コード
須崎 嘉文[Suzaki Yoshifumi] Lx 2 944141
DP・提供部局  
ABXT
 
授業形態  
Lx
 
関連授業科目  
 
履修推奨科目  
 
学習時間  
講義90分 × 15回 + 自学自習
 
授業の概要  
光・電子材料プロセスとしての薄膜作製技術の基礎、エレクトロニクス技術の最先端を担う技術について講義を行う。また、その他、薄膜の広い応用分野について学習する。
 
授業の目的  
現代は情報社会と呼ばれる。この社会を可能にしている携帯電話、メモリープレーヤー、コンピューター、さらにはディスプレイといった技術を、ハード面で支えているのが光・電子材料プロセス技術である。本授業では、薄膜作製技術の基礎から、応用までの概要を理解することを目的とする。
 
到達目標  
光・電子材料プロセス技術としての薄膜作製技術の基礎について理解する。
薄膜の応用の概要について理解する。
 
学習・教育到達目標(工学部JABEE基準)  
 
成績評価の方法と基準  
演習問題の解答レポート40%、薄膜技術・応用に関する調査レポート60%
 
授業計画並びに授業及び学習の方法  
教科書に沿って講義を行うが、必要に応じてプリント等で補う。各内容に関して課題を課し、レポートを提出させる。また、最終レポートとして最新の光・電子材料の応用、および、プロセス技術について調査し、まとめる。

第1回:光・電子材料、薄膜の機能と応用(光・電子材料、薄膜の機能とその使われ方について概要を理解する)
第2回:薄膜作製技術(薄膜作製技術について概要を理解する)
第3回:薄膜成長過程とエピタキシー(薄膜の成長過程について理解する、また、エピタキシーとは何か理解する)
第4回:薄膜の製作法・真空蒸着(薄膜作製方法のひとつである真空蒸着について理解する)
第5回:薄膜の製作法・スパッタリング法(薄膜作製方法のひとつであるスパッタリングについて理解する)
第6回:薄膜の製作法・化学気相成長法(CVD)(薄膜作成方法のひとつである化学気相成長法(CVD)について理解する)
第7回:薄膜の機能・半導体薄膜(半導体薄膜の特徴および機能について理解する)
第8回:薄膜の機能・光学薄膜(光学薄膜の特徴および機能について理解する)
第9回:薄膜の機能・有機薄膜(有機薄膜の特徴および機能について理解する )
第10回:薄膜の機能・誘電体薄膜(誘電体薄膜の特徴および機能について理解する)
第11回:薄膜の機能・磁性薄膜(磁性薄膜の特徴および機能について理解する)
第12回:膜厚測定法(膜厚とは何か、および、その測定方法を理解する)
第13回:薄膜の機械的・力学的性質(薄膜の機械的・力学的性質、および、その測定方法について理解する)
第14回:薄膜の化学的性質(薄膜の化学的性質にはどのようなものがあるか、および、その測定方法について理解する)
第15回:実際の薄膜応用の調査(実際の工業製品、光・電子デバイスなどにおいて、薄膜がどのように応用されているかを調査する)
 
教科書・参考書等  
教科書:薄膜工学第3版(金原 粲 監修、吉田貞史 近藤高志 編著)丸善、2016、ISBN 978-4-621-30098-5、3800円+消費税
 
オフィスアワー  
オフィスアワー: 講義終了後16:00~17:00、2号館5階2507須崎研究室で受付。
また、メール(suzakiss@softbank.ne.jp)により時間を調整して対応する。
 
履修上の注意・担当教員からのメッセージ  
毎時間出席し、講義内容についてノートを取りまとめること。最終レポートについては、5つ以上の文献を参考にしてまとめること。
 
参照ホームページ  
http://www.eng.kagawa-u.ac.jp/~suzaki/suzaki.html
 
メールアドレス  
suzaki@eng.kagawa-u.ac.jp
 
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